Elektronenstrahllithographie ist eine spezielle Technik, um extrem kleine Strukturen (im nm-Bereich) zu erzeugen. Dabei scannt ein fokussierter Elektronenstrahl die Oberfläche des zu strukturierenden Substrats ab, wobei das Substrat mit einem Resist (hier PMMA) bedeckt ist, der empfindlich gegenüber den Elektronen ist. In diesem Versuch werden Sie lernen einfache, kleine Strukturen zu schreiben.

Versuchsgruppe: Na      → Link zur Versuchsanleitung